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高性能和低价格导致液晶面板制造设备变异
2006-10-30       来源:
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高性能和低价格导致液晶面板制造设备变异

【日经BP社报道】

平板显示器(FPD)制造工序可能发生巨大变动。为满足TFT液晶面板对高性能、低价格的要求,需要采用与以往完全不同的全新概念的制造技术。本届“FPD International”围绕这些新技术展开了热烈的讨论。

  第1是夏普与大日本印刷两家公司共同开发的利用喷墨法制造彩色滤光片的工艺。如果这种工艺得到普及,生产彩色滤光片过程中就可以不再使用曝光设备。同时,由于必须进行检测和修正不良模式,还会影响到检测设备和修正设备生产商。其中,等离子CVD设备生产商AKT公司已经开始了这方面的研究。

  第2是掺加杂质使用的离子注入机。现阶段,杂质注入工艺中采用的是非质谱型的设备。因为不需要质谱分析使用的大型磁铁体设备,这种设备体积小,价格也便宜15%左右。

  杂质离子使用磷化氢与氢气或者乙硼烷与氢气的混合气体通过电弧放电生成的离子。虽然这种设备产生的电子束是质谱型的2倍,但注入底板的除了磷离子或硼离子外,还会混入分子离子和氢离子。这些离子会对提高TFT阵列周围的CMOS电路性能形成阻碍。因此,广泛应用于硅LSI生产的质谱型离子注入机开始被越来越多的面板厂商采用。

  第3是正在普及的使用N(氮)和O(氧)的常压等离子体进行表面处理的设备。通过使用氧等离子,疏水性树脂的表面可以具备亲水性,使清除表面污垢成为可能。与目前在真空条件下进行处理的等离子设备相比,该设备还具有操作简便的特点。(特约撰稿人:桥本 哲)

责任编辑: FlyDa

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